虚线、阴影线和点划线与外观设计专利申请

机械制图中经常会使用到虚线、阴影线、点划线来分隔内容，描画图形。因此在申请外观设计的时候，很多申请人也会选择用它来体现产品。

所谓虚线，是以点或者短线画成的断续的线，根据国标GB/T 4457.4-2002 机械制图 图样画法 图线规定，技术图样中，主要使用细虚线和粗虚线两种，细虚线用以表示不可见棱边线和不可见轮廓线，粗虚线用以表示允许表面处理的表示线。

点划线，是工程图样中的一种常用图线，由点与短线段连续组成，根据国标规定，分为细点画线、粗点划线和细双点画线。细点划线主要用于绘制轴线、对称中心、分度圆（线）、孔系分布的中心线、剖切线；粗点划线多用以作为限定范围表示线；细双点划线多用来做相邻辅助零件的轮廓线、可动零件的极限位置的轮廓线、成形前轮廓线、剖切面前的结构轮廓线、轨迹线、毛坯图中制成品的轮廓线、特定区域线、延伸公差带表示线、工艺用结构的轮廓线、中断线等。

阴影线，在机械制图的国家标准中并没有这样的线形描述，从一般绘画角度，它更多地用来表示光投射到立体物体上时产生的阴影，用来表现立体物体的三维状态。

然而根据中国《专利法》的相关规定，外观设计图片的绘制应当参照我国技术制图和机械制图国家标准，应当以粗细均匀的实线表达外观设计的形状，不得以阴影线、指示线、虚线、中心线、尺寸线、点划线等表达外观设计的形状。如果外观专利申请递交的图片中使用了上述线条，则审查员会下发《补正通知书》，指出“图片不能清楚地显示要求专利保护的产品的外观设计，不符合专利法第二十七条第二款的规定”要求申请人删除或修改线条，即删除或者描实相关线条。在此情况下，申请人“必须二选一”，选择一种修改方式使图片符合授权的基本要求。实践中考虑到帮助申请人争取尽可能大的保护范围，建议最好在外观设计申请递交时，将带虚线的视图递交两遍（即当作相似外观设计递交），以备后续申请人可通过虚线改为实线或者删除虚线这两种方式得到不同的两个相似外观设计。如果新申请递交的同时未采取上述方式递交，在选择某一方式修改了外观专利申请图片后，对于另一种修改方案修改的图片所表示的产品，也可通过递交一个分案申请的方式争取保护。

那么递交外观设计的分案申请在申请文件上有哪些要求呢？

（1） 原申请中包含两项以上外观设计的，分案申请应当是原申请中的一项或几项外观设计，并且不得超出原申请表示的范围。

（2）原申请为产品整体外观设计的，不允许将其中的一部分作为分案申请提出，例如一件专利申请请求保护的是摩托车的外观设计，摩托车的零部件不能作为分案申请提出。

从上文的要求可以看出，如果修改后的图片和照片只是修改前的图片中产品的一个零件或部件的话，是不能作为分案申请提出的，不被专利局接受。那么第一点要求中的“是原申请中的一项或几项外观设计”是否要求“分案申请必须为其母案中删除的一项或几项外观设计”呢？答案是否定的。

以一个案件为例：

本外观申请是关于某装置的盖子的设计，在递交新申请的时候提交了2个相似设计，其中设计1各视图中包括不被允许的虚线、阴影线和点划线，设计2各视图中包括阴影线和点划线。在审查过程中，审察员提出了表示线的问题。通常的处理方式是将不允许的线描实或删除，而本案点划线所表示的圆滑过渡部分，可以有两种修改方式，进而产生四套修改方案图。由于每套方案的侧重点不一样，对这四套图都进行保护对申请人更为有利。然而因为原始申请只递交了两个相似外观设计，就目前的实务经验审查员不允许答复补正通知书时增加要求相似设计，因此在答复补正通知书的时候只能保留两套图。

对于另外两套图，为了帮助客户争取最大的权益，可以提出分案申请，对其他修改方式申请保护。目前母案及分案申请均以获得授权。

在本案例中，分案提交的图片并非母案中删除的某项或某几项外观设计，而是基于母案图片的不同修改方式所得出的相似外观设计。因此在理解“原申请中包含两项以上外观设计的，分案申请应当是原申请中的一项或几项外观设计”时，我们认为可以包括“不超范围的修改”，而不必拘泥于曾经“删除”的一项或几项外观设计。这样若是在克服母案图片缺陷过程中利用不同方式对线条进行修改，得出了多套相似外观设计，而实际又超出了母案本身可以容纳的保护数量，则可以利用提出分案申请的方式争取保护。

因此，申请人在制备外观设计图片过程中，可以充分考虑线条的使用，利用专利法赋予申请人的机会和权利，争取最大的保护范围。我们也非常乐意在此过程中为您提供专业的支持与服务。